본 발명은 고분자 합성 기술 분야에 관한 것으로, 다중 피크 분자량 분포를 갖는 폴리에틸렌 글리콜 조성물 및 그 제조 방법을 개시한다. 상기 폴리에틸렌 글리콜 조성물은 폴리에틸렌 글리콜 그래프트 공중합체와 폴리에틸렌 글리콜 호모폴리머를 포함한다. 상기 폴리에틸렌 글리콜 그래프트 공중합체는 하기 화학식 (I') 및 화학식 (I")에 나타낸 세그먼트를 적어도 포함한다: 화학식 (I'): 화학식 (I"): 여기서 p는 중합도를 나타낸다. 본 발명의 폴리에틸렌 글리콜 조성물은 높은 분자량, 낮은 용융 유동률 및 높은 인성을 나타낸다. 이는 단독 필름 블로우 성형 가공에 적합하며, 제품의 강도와 인성이 응용 요구 사항을 충족한다. 동시에, 이 폴리에틸렌 글리콜 조성물의 제조 방법은 트윈스크류 압출기를 이용한 연속 가공을 통해 높은 생산 효율을 달성하여 상당한 실용적 가치를 입증한다.
국가 코드: CN
출원 번호: CN202211002667.6
