A presente invenção descreve um material de poliéter eter cetona (PEEK) antistático. 60% a 85% de resina de PEEK, 1% a 10% de óxido de grafeno modificado, 0% a 5% de CNTs sulfonados e 0,5% a 3% de CNTs são pré-misturados em um misturador de alta velocidade, granulados por um extrusor de dois parafusos e 10% a 38% de fibra de vidro é adicionado ao sistema de materiais através de um alimentador lateral durante o processo de granulagem para obter o material de PEEK antistático. O óxido de grafeno modificado é preparado por mistura interna de óxido de grafeno, CNTs sulfonados e resina epóxica em uma solução de anilina em etilbenzeno. Ao modificar o óxido de grafeno e os CNTs sulfonados, a presente invenção melhora o efeito de dispersão do óxido de grafeno e dos CNTs sulfonados no material de PEEK antistático, aumenta a força de ligação entre o óxido de grafeno, os CNTs sulfonados e a resina de PEEK, faz com que o material condutor se disperse de forma mais uniforme e, ao mesmo tempo, melhora a estabilidade do efeito de dispersão do agente condutor durante os processos de moldagem e processamento, como extrusão e moldagem por injeção.
Código do país: CN
Número de pedido: CN202410351716.X
